日本ULVAC愛發(fā)科H83-50 H83-125 H84-125半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備

產(chǎn)品型號(hào)：H83-50 H83-125 H84-125
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2025-10-14
訪問(wèn) 量：828

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產(chǎn)品分類

CLASSIFICATION

ULVAC愛發(fā)科

愛發(fā)科真空泵熱處理設(shè)備離子注入機(jī) 蝕刻設(shè)備灰化裝置真空沉積設(shè)備化學(xué)氣相沉積設(shè)備濺射設(shè)備

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日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備

臥式熱處理設(shè)備H系列

這是一款高度可靠的熱處理爐，擁有 30 多年的良好記錄?？捎糜?00mm硅片的氧化、擴(kuò)散、退火等熱處理。

特征

這是一種臥式爐，用作氧化爐、擴(kuò)散爐和退火爐。
可以在一臺(tái)設(shè)備上選擇不同的進(jìn)程。
我們的目標(biāo)是通過(guò)使用 3 層或 4 層配置來(lái)節(jié)省空間。
5 個(gè)區(qū)域加熱器均獨(dú)立控制，可實(shí)現(xiàn)溫度控制，具有出色的熱均勻性和穩(wěn)定性。
配備內(nèi)部控制系統(tǒng)，操作簡(jiǎn)單可靠。
H83-125和H84-125標(biāo)配船用升降機(jī)，可以輕松裝載到上層。
可以進(jìn)行諸如熱解氧化、濕式氧化、干式氧化、使用三氯氧化磷(POCl ₃ )和三溴化硼(BBr _{3 )的磷擴(kuò)散、硼擴(kuò)散和退火等工藝。}

目的

硅片的熱氧化、擴(kuò)散和退火

規(guī)格

模型	H83-50	H83-125	H84-125
過(guò)程	氧化、擴(kuò)散、退火
晶圓直徑	～200mm（8英寸）
級(jí)數(shù)	3	3	4
產(chǎn)品晶圓數(shù)量	50	125	125
加熱區(qū)	5
加熱器材質(zhì)	鐵鉻鋁
常用溫度	600～1200℃
浸泡長(zhǎng)度	370毫米	800毫米	800毫米
溫度均勻	±1.0℃

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日本ULVAC愛發(fā)科H83-50 H83-125 H84-125半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備

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